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二氧化铪HfO2

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二氧化铪HfO2

用电子枪,氧分压~1~2×10-2pa。蒸发温度~2600~2800℃,基片温度~250℃,蒸发速率2nm/s
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产品描述
品名:二氧化铪
分子式:HfO2
纯度:99.9% 99.99%
密度:9.68g/cm3
熔点:2758℃
摩尔质量:210.49 g/mol
cas号: 12055-23-1
溶解度:不溶解于水
薄膜特性:透光范围~220~12000nm
折射率(250nm)~2.15 (500nm)~2
立车光电材料,球形氟氧化钇,球形氧化钇,球形氟化钇
蒸发条件:用电子枪,氧分压~1~2×10-2pa。蒸发温度~2600~2800℃,基片温度~250℃,蒸发速率2nm/s
 应用领域:uv增透膜,干涉膜
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