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氟化钇的应用

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氟化钇的应用
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氟化钇的应用

【摘要】:
氟化钇为凝胶状物质,熔点1387℃,沸点2230℃,相对密度4.01。不溶于水和稀酸。制备方法:氧化钇与无水氟氢在700℃反应8小时,氧化钇与30%以上的二氟化铵在300℃反应12小时。氟化钇是一种毒性较小的物质,毒性风险为四级,对皮肤和眼睛无明显刺激。氟化钇的富集能力较弱。

氟化钇为凝胶状物质,熔点1387℃,沸点2230℃,相对密度4.01。不溶于水和稀酸。制备方法:氧化钇与无水氟氢在700℃反应8小时,氧化钇与30%以上的二氟化铵在300℃反应12小时。氟化钇是一种毒性较小的物质,毒性风险为四级,对皮肤和眼睛无明显刺激。氟化钇的富集能力较弱。

用氟化钇代替氟化锂作为电子注入层材料,金属铝作为阴极,制备了有机电致发光器件。其中YF3厚度为1.2 nm的器件,最小发光电压为2.6 V,最高电流效率为8.52 CD·a-1,最大亮度为36530 CD·m-2。与锂氟参比样品相比,最大亮度和电流效率分别提高了39%和53%。

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将氟化钇作为改性剂掺入到刘珊珊的钡中,研究了氟化钇掺杂量对钛酸锶钡致密性和介电性能的影响。YF3掺杂的Ba0.6Sr0.4TiO3材料的介电常数随着氟化钇掺杂量的增加先减小后增大,当氟化钇掺杂量为5%时,介电常数降至550(100KHz)左右,介电可调性达到9.6% (1 kV/mm)。当掺杂量为20%时,介电常数为1095(100千赫),介电可调性达到19.6%。氟化钇薄膜与其他氟化物(氟化钡、氟化钙等)相比,具有较低的折射率(约1.4),较宽的透射带(0.35 ~ 12 m),较高的硬度。),使得氟化钇薄膜广泛用于各种衬底上的减反射膜的设计。CN201110181075.0提供氧稳定氟化钇薄膜。该制备方法通过以下步骤实现:

ZnS基片用超声清洗15 ~ 30分钟,用酒精清洗15 ~ 30分钟,然后用去离子水清洗30分钟,然后ZnS基片在磁控溅射的旋转下在真空室加热阶段,通过真空系统进入真空室,真空度为1.0 ~ 9.9×10×10-4-4pa,然后加热到25 ~ 1000 ℃并保温30 ~ 120分钟。

将氩气倒入真空室,真空室内部压力为3 ~ 5Pa。对ZnS衬底表面进行背面等离子清洗10 ~ 20min。清洗后进行反冲洗,施加溅射功率,溅射功率为60 ~ 500瓦,溅射20 ~ 50分钟,然后打开O2流量开关,SCCM O2流量控制在1 ~ 100 SCCM,以真空室内部的气体压力为0.1 ~ 2 pa对硫化锌衬底表面施涂后,1 ~ 3 h后关闭涂覆剂的O2流量开关,继续涂覆10 ~ 300分钟。

涂层完成后,抽真空至2.0×10-4Pa,加热至200 ~ 1000℃2 ~ 5h。当真空室温度降至室温时,氧稳定氟化钇薄膜的制备就完成了。