>
>
氟化钇的制备步骤是什么?

版权所有 © 武强县立车发光材料有限公司    冀ICP备15020922号-1     技术支持:中企动力石家庄   | 后台管理

友情链接:

新 闻 资 讯

Information

>
>
氟化钇的制备步骤是什么?
公司新闻
行业新闻

氟化钇的制备步骤是什么?

【摘要】:
用于制备一种氧稳定氟化钇薄膜 氟化钇薄膜具有较低的折射率(折射率约为1.4),较宽的透过波段(0.35~12μm),和其他氟化物(氟化钡,氟化钙等)相比具有较高的硬度,使得薄膜广泛用于各种衬底上的增透膜的设计。

用于制备一种氧稳定氟化钇薄膜

      
氟化钇薄膜具有较低的折射率(折射率约为1.4),较宽的透过波段(0.35~12μm),和其他氟化物(氟化钡,氟化钙等)相比具有较高的硬度,使得薄膜广泛用于各种衬底上的增透膜的设计。

       常用制备薄膜的方法为热蒸发沉积法,离子、电子束辅助 蒸发沉积法,化学法等。磁控溅射技术是一种低温高速薄膜沉积技术,广泛应用于工业生产和科学研究中,但是利用磁控溅射技术采用氟化钇靶材来制备薄膜时,易使得阴离子氟离子流失,吸收增大,折射率畸变,功能失效,同时薄膜的内应力失稳,极易使得 薄膜破裂脱落与破裂,导致结构失效。

       缺氟会导致的光学常数的变形,一般采取反应气体来补充氟离子,如果采取氟气,则有剧毒。如果采用全氟化碳则会在薄膜中引入C等杂质离子,严重恶化薄膜的光学性能。

制备方法按以下步骤实现:

       1、将ZnS衬底用CH3COCH3超声波清洗15~30min,用酒精清洗15~30min,然后用去离子水清洗30min,再将ZnS衬底置于磁控溅射真空仓内的旋转加热台上,通过真空获得系统将真空仓内抽成真空至真空度为 1.0×10-4~9.9×10-4Pa,然后加热至25~1000℃并保温30~120min;

       2、向真空仓通入Ar 气至真空仓内压强为3~5Pa,对ZnS衬底表面进行反溅清洗10~20min;

       3、反溅清洗后,施加溅射功率,溅射功率为60~500瓦,预溅射20~50min,然后开启O2流量剂开关,O2流量控制在1sccm~100sccm,至真空仓内气体压强为0.1~2Pa后向ZnS衬底表面镀膜,镀膜1~3h后关闭O2流量剂开关,继续镀膜10~300min;

       4、镀膜完成后抽真空 到2.0×10-4Pa并升温至200~1000℃,保温2~5h,待真空仓内温度降至室温,即完成氧稳定氟化钇薄膜的制备。